具有减少的离子流的预清洁腔室

摘要

本文公开用于处理基板的设备。在某些实施例中，基板处理系统可包括处理腔室、基板支撑件及等离子体过滤器。该处理腔室具有用来接收等离子体的第一空间以及用来处理基板的第二空间。该基板支撑件设置于第二空间中。该等离子体过滤器设置于处理腔室中并且在第一空间及第二空间之间，使得形成在第一空间的等离子体可仅从第一空间经由等离子体过滤器而流进第二空间。在某些实施例中，基板处理系统包括耦接至处理腔室的处理套件，其中等离子体过滤器设置于处理套件中。

主权项

一种基板处理系统，所述基板处理系统包括：处理腔室，所述处理腔室具有用来接收等离子体的第一空间和用于处理基板的第二空间；基板支撑件，所述基板支撑件设置于所述第二空间中；和等离子体过滤器，所述等离子体过滤器设置于所述处理腔室中并且在所述第一空间与所述第二空间之间，使得形成于所述第一空间中的等离子体可仅从所述第一空间经由所述等离子体过滤器而流进所述第二空间。