一种采用方光斑刻蚀双面ITO玻璃的刻蚀装置

摘要

本实用新型公开了一种采用方光斑刻蚀双面ITO玻璃的刻蚀装置，可以将激光束能量分布的模式由高斯模式转换为等功率分布,整形后的光束所照可以将照射部位薄膜均匀去除,即去除薄膜厚度一致,本实用新型公开的刻蚀装置包括支撑机构和等功率分布整形光路机构，所述支撑机构包括上支撑装置和下支撑装置，所述上下支撑装置各包含一套等功率分布整形光路机构，用于提供等功率激光束。高斯模式激光束在使用过程中，由于能量分布中间大四周小，蚀刻过程中往往在双面ITO玻璃加工边缘出现残留，造成产品加工问题，而等功率激光束则可以很好的解决这个问题。

主权项

一种采用方光斑刻蚀双面ITO玻璃的刻蚀装置，包括：等功率分布整形光路机构，所述等功率分布整形光路机构包括光束整形部件,所述光束整形部件用于将高斯模式激光束转变为等功率分布激光束；和支撑机构，所述支撑机构包括上支撑机构和下支撑机构，所述上下支撑机构各包含有所述等功率分布整形光路机构；和激光器。