发明名称 |
高分子化合物,正型光阻组成物,及光阻图型之形成方法 |
摘要 |
一种高分子化合物,其为具有下述通式(a0-1)所表示之结构单位(a0),与由含有酸解离性溶解抑制基之丙烯酸酯所衍生,且,不相当于该结构单位(a0)之结构单位(a1),;〔化1〕;…(a0-1);[式中,R为氢原子、低级烷基,或卤化低级烷基;A为可具有取代基之2价之脂肪族环式基,B为可具有取代基之2价之烃基,r为0或1之整数,R1为酸解离性溶解抑制基]。 |
申请公布号 |
TWI389922 |
申请公布日期 |
2013.03.21 |
申请号 |
TW097130401 |
申请日期 |
2008.08.08 |
申请人 |
东京应化工业股份有限公司 日本 |
发明人 |
太宰尚宏;森贵敬;清水宏明;大下京子;平原孔明 |
分类号 |
C08F220/26;G03F7/039;G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
C08F220/26 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |