发明名称 高分子化合物,正型光阻组成物,及光阻图型之形成方法
摘要 一种高分子化合物,其为具有下述通式(a0-1)所表示之结构单位(a0),与由含有酸解离性溶解抑制基之丙烯酸酯所衍生,且,不相当于该结构单位(a0)之结构单位(a1),;〔化1〕;…(a0-1);[式中,R为氢原子、低级烷基,或卤化低级烷基;A为可具有取代基之2价之脂肪族环式基,B为可具有取代基之2价之烃基,r为0或1之整数,R1为酸解离性溶解抑制基]。
申请公布号 TWI389922 申请公布日期 2013.03.21
申请号 TW097130401 申请日期 2008.08.08
申请人 东京应化工业股份有限公司 日本 发明人 太宰尚宏;森贵敬;清水宏明;大下京子;平原孔明
分类号 C08F220/26;G03F7/039;G03F7/20;H01L21/027 主分类号 C08F220/26
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本