光阻保护膜材料及图型之形成方法

摘要

[课题]提供即使于光阻膜上形成保护膜时，亦可更加确实取得矩形之良好光阻图型的光阻保护膜材料，以及使用此类材料形成图型之方法。;[解决手段]至少含有于聚合终端具有胺基或磺醯胺基之下述一般式(1)所示之高分子化合物为其特征的光阻保护膜材料。以及，至少含有，于基板上形成光阻膜之步骤，和于该光阻膜上，使用前述光阻保护膜材料形成光阻保护膜之步骤、和曝光步骤、和使用显像液予以显像之步骤为其特征之图型的形成方法。;【化52】;(1)