| 摘要 |
本发明，提供构成反射电极的金属层，系不中介着障壁金属层，而构成透明电极之与氧化物导电膜直接连接的反射电极，例如即使施以约100℃以上300℃以下的低的热处理，也具有高反射率及低的接触电阻，而且也不会产生小丘(hillock)等缺陷且耐热性也优异之反射电极。本发明，关于被形成于基板上的显示装置用之反射电极，前述反射电极具有0.1～2原子百分比之Ni及/或Co，及含有0.1～2原子百分比之La等之X之第1 Al-(Ni/Co)-X合金层，及含Al与O(氧)之第2之铝的氧化物层。前述铝的氧化物层，与透明画素电极直接连接，前述铝的氧化物层中的氧原子数与铝原子数之比[O]/[Al]为0.30以下，前述铝的氧化物层之最薄的部分的厚度，在10nm以下。前述反射电极，在前述铝的氧化物层与前述透明画素电极直接连接的区域，被形成于前述透明画素电极与前述基板之间。 |
