发明名称 具有线上粒子侦测功能之浸润式微影制程
摘要 一种浸润式微影制程系统包含:一个镜组单元自其末端投射出一图案至一晶圆上;一个防护罩单元用以限制浸润流体于该晶圆的一区域,使得浸润流体包围该镜组单元之末端;一个晶圆载物台用以放置该晶圆于接近该镜组单元之末端的位置;一个影像撷取装置耦合该晶圆载物台,且用以撷取该防护罩单元邻近该晶圆载物台之表面的影像;一个散射光侦测系统靠近该镜组单元之末端与该防护罩单元,且系用以侦测该晶圆载物台之表面上的粒子。
申请公布号 TWI390359 申请公布日期 2013.03.21
申请号 TW096143073 申请日期 2007.11.14
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号 发明人 陈立锐;高蔡胜;彭其康
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号