发明名称 基板处理装置以及基板处理方法
摘要 本发明之生成含微小气泡的液体(23)的基板处理装置( )包括:微小气泡液生成部(12),其生成含微小气泡的液体(23);以及异物除去机构部(30),其从微小气泡液生成部(12)所提供的含微小气泡的液体(23)中除去异物。
申请公布号 TWI389746 申请公布日期 2013.03.21
申请号 TW098117438 申请日期 2009.05.26
申请人 芝浦机械电子装置股份有限公司 日本 发明人 菊池勉;安部正泰;广瀬治道;西部幸伸;安藤佳大
分类号 B08B3/10;H01L21/67 主分类号 B08B3/10
代理机构 代理人 洪尧顺 台北市内湖区行爱路176号3楼
主权项
地址 日本