元件制造方法、微影设备和电脑程式产品

摘要

本发明系关于一种元件制造方法，其包含以一由一安装于一可移位主光罩平台上之主光罩所形成之经图案化辐射光束曝光一基板，其中该方法包含以下步骤：判定一用于估计一主光罩表面之相对于该主光罩平台之一高度及一倾斜轮廓的非线性函数；及根据该非线性函数在该基板之曝光期间控制该主光罩平台的一移位。本发明进一步关于一种微影设备及一种电脑程式。