| 摘要 |
一种即时动态CD(Critical Dimension)之控制方法，其系用于加热板上涂布有光阻之晶圆的热处理系统中。该方法包括为加热板表面建立温度轮廓，其中将加热板表面分为复数个温度控制区，以及循序地热处理该加热板上涂布有光阻之晶圆。该方法更包括从在热处理后的晶圆上的测试区域取得CD量测资料，其中依二或多个热处理后的晶圆选择不同之测试区域群组。利用CD量测资料以建构CD量测资料舆图，且利用该CD量测资料以针对加热板表面建立调整后的温度轮廓。接着热处理在加热板上之其他晶圆。该方法也可运用至热处理在复数个加热板上之涂布有光阻之晶圆。 |
