发明名称 共聚物及形成上层膜用组成物
摘要 本发明提供一种不与光阻膜引起互混,可在光阻上形成被膜,能维持不溶解析出于浸液曝光时之媒体的稳定被膜,进而,不造成在施行非浸液曝光之乾曝光时的图型形状劣化,且形成容易溶解于硷显像液的上层膜之共聚物。;其特征为含有至少一种选自具有下述式(1)表示之基的重覆单位,具有下述式(2)表示之基的重覆单位、及具有羧基之重覆单位的重覆单位(I)、与具有磺基之重覆单位(II),藉由凝胶渗透色谱法测定之重量平均分子量为2,000~100,000。;(1).;式中,R1及R2之至少一方为碳数1~4之氟化烷基;式(2)中,R3为碳数1~20之氟化烷基。
申请公布号 TWI389921 申请公布日期 2013.03.21
申请号 TW094134345 申请日期 2005.09.30
申请人 JSR股份有限公司 日本 发明人 千叶隆;木村彻;宇高友广;中川大树;榊原宏和;堂河内宽
分类号 C08F220/10;G03F7/11;H01L21/027 主分类号 C08F220/10
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本