| 发明名称 |
光学记录媒体与溅镀靶及该溅镀靶的制造方法 |
| 摘要 |
本发明揭示－种含有基材与该基材上之记录层的光学记录媒体，其中该记录层主要含有Bi与O，另外含有B与选自Ge、Li、Sn、Cu、Fe、Pd、Zn、Mg、Nd、Mn与Ni之至少一种元素X，以及含有Bi、B与选自Ge、Li、Sn、Cu、Fe、Pd、Zn、Mg、Nd、Mn与Ni之至少一种元素X的溅镀靶。 |
| 申请公布号 |
TWI390528 |
申请公布日期 |
2013.03.21 |
| 申请号 |
TW097103519 |
申请日期 |
2008.01.30 |
| 申请人 |
理光股份有限公司 日本 |
发明人 |
林嘉隆;笹登;藤井俊茂;藤原将行;佐佐木俊英;加藤将纪;毛利匡贵;山田胜幸 |
| 分类号 |
G11B7/243;G11B7/254;G11B7/257;G11B7/24 |
主分类号 |
G11B7/243 |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
