| 发明名称 | 一种刻度化的镭射烫金箔 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供了一种刻度化的镭射烫金箔，包括基膜，以及依次设置在基膜上的脱离层、着色层、镀铝层和粘胶层，所述脱离层上设置有刻度。本实用新型所述的刻度化的镭射烫金箔通过在脱离层上设置刻度，使得该镭射烫金箔在转印前可看到刻度，从而便于使用者估量；而在镭射烫金箔转印后，刻度与脱离层同时脱落，不影响整体美观。 | ||
| 申请公布号 | CN202805983U | 申请公布日期 | 2013.03.20 |
| 申请号 | CN201220458159.4 | 申请日期 | 2012.09.10 |
| 申请人 | 温州市华艺激光材料公司 | 发明人 | 余庆亮 |
| 分类号 | B41M5/42(2006.01)I | 主分类号 | B41M5/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中北知识产权代理有限公司 11253 | 代理人 | 程春生 |
| 主权项 | 一种刻度化的镭射烫金箔，包括基膜，以及依次设置在基膜上的脱离层、着色层、镀铝层和粘胶层，其特征在于，所述脱离层上设置有刻度。 | ||
| 地址 | 325800 浙江省温州市苍南县金乡镇东门工业区一街168号 | ||