发明名称 用于以气液下降并流方式操作的固定床反应器的具有溢流管的预分布过滤板
摘要 本发明中描述的装置通过用包括用于调节到达位于所述装置下游的该分布板上的液体的流速的过滤介质和溢流管的预分布板预分布供给以下降的气/液并流方式运行的反应器的气/液进料。本装置更特别地应用于对包含乙炔和二烯化合物的原料的选择性加氢处理。
申请公布号 CN101918100B 申请公布日期 2013.03.20
申请号 CN200880120886.6 申请日期 2008.10.24
申请人 IFP公司 发明人 A·库迪尔;C·博耶
分类号 B01D24/22(2006.01)I;C10G49/00(2006.01)I;B01J8/04(2006.01)I;B01J8/02(2006.01)I 主分类号 B01D24/22(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 刘维升;林森
主权项 用于过滤和预分布气相和液相的装置,该气相和液相构成以气体和液体下降并流方式操作的催化反应器的进料,该液相含有堵塞性颗粒,该装置由预分布板构成,所述装置位于分布板的上游,该分布板被称作下游分布板,该预分布板由以下构成:·穿孔有具有在3~6mm范围的直径d0的开孔(7)的板,其基本为水平的且与该反应器的壁连成一体,在其上固定有基本垂直的气孔(3),该气孔(3)的密度在30~100/m2床截面的范围内,该气孔(3)在其上端开口以接收气体,并在其下端开口的排出所述气体,所述板支撑包围气孔(3)的过滤床(2),所述气孔(3)超过该过滤床(2)的上水平面的高度Hc在5~100mm范围内;·至少一个其直径Dt在70mm~250mm的溢流管(4),其用作液体堰,从位于该气孔的上端水平面之下且保持包含在该过滤床(2)内的上水平面基本垂直延伸到位于距下游分布板底部水平的距离Di处的下水平面,Di小于300mm,该溢流管的出口开孔的直径ds在30mm~300mm范围内;和所述过滤床(2)由至少两个颗粒层构成,上面的第一层由具有在10~30mm范围内的直径的惰性颗粒构成,下面的第二层由具有在2~10mm范围内的直径的惰性颗粒构成,过滤床(2)的总高度Ht在200mm~600mm范围内。
地址 法国吕埃-马迈松