发明名称 硅发光元件
摘要 本发明提供了一种硅发光元件,具备:具有第1面(10a)和位于该第1面相反侧的第2面(10b)的第1导电类型的硅衬底(10);设置在硅衬底(10)的第1面(10a)上的绝缘膜(11);设置在绝缘膜(11)上不同于第1导电类型的第2导电类型的硅层(12);设置在硅层(12)上的第1电极(13);以及设置在硅衬底的第2面上的第2电极(14),硅衬底(10)的载流子浓度为5×1015cm-3~5×1018cm-3,硅层(12)的载流子浓度为1×1017cm-3~5×1019cm-3并且比硅衬底(10)的载流子浓度大一个数量级以上,绝缘膜(11)的膜厚是0.3nm~5nm。由此,实现了可以适用于硅光子学的光源的硅发光元件。
申请公布号 CN102210029B 申请公布日期 2013.03.20
申请号 CN200980144433.1 申请日期 2009.09.08
申请人 浜松光子学株式会社 发明人 楚树成;菅博文
分类号 H01L33/00(2006.01)I;H01S5/32(2006.01)I 主分类号 H01L33/00(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种硅发光元件,其特征在于,具备:第1导电类型的硅衬底,具有第1面和在该第1面的相反侧的第2面;绝缘膜,设置在所述硅衬底的所述第1面上;第2导电类型的硅层,设置在所述绝缘膜上,所述第2导电类型不同于所述第1导电类型;第1电极,设置在所述硅层上;以及第2电极,设置在所述硅衬底的所述第2面上,所述硅衬底的载流子浓度为5×1015cm‑3~5×1018cm‑3,所述硅层的载流子浓度为1×1017cm‑3~5×1019cm‑3,并且比所述硅衬底的载流子浓度大一个数量级以上,所述绝缘膜的膜厚是0.3nm~5nm。
地址 日本静冈县