发明名称 |
封闭型沟槽式功率金氧半场效晶体管结构及其制作方法 |
摘要 |
一种封闭型沟槽式功率金氧半场效晶体管结构及其制作方法,其结构具有一第一导电型的漏极区、一第二导电型的本体、一沟槽式栅极与多个具有第一导电型的源极区;本体位于漏极区上;沟槽式栅极位于本体内,并具有至少二长条部分与一交错部分,其中,长条部分的底部位于漏极区内,交错部分的底部位于本体内;源极区位于本体内,并且至少邻接于沟槽式栅极的长条部分。本发明通过缩减沟槽式栅极与漏极的接面面积,以降低封闭型沟槽式功率金氧半场效晶体管结构的栅极/漏极电容值。 |
申请公布号 |
CN102088033B |
申请公布日期 |
2013.03.20 |
申请号 |
CN200910252065.4 |
申请日期 |
2009.12.08 |
申请人 |
科轩微电子有限公司 |
发明人 |
许修文 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 |
代理人 |
王月玲;武玉琴 |
主权项 |
一种封闭型沟槽式金氧半场效晶体管结构,其特征在于,包括:一第一导电型的漏极区;一第二导电型的本体,位于该漏极区上;一沟槽式栅极,位于该本体内,该沟槽式栅极具有至少二长条部分与一交错部分,其中,该长条部分的底部位于该漏极区内,该交错部分的底部位于该本体内;以及多个具有该第一导电型的源极区,位于该本体内,并且至少邻接于该沟槽式栅极的该长条部分。 |
地址 |
中国台湾台北市 |