发明名称 封闭型沟槽式功率金氧半场效晶体管结构及其制作方法
摘要 一种封闭型沟槽式功率金氧半场效晶体管结构及其制作方法,其结构具有一第一导电型的漏极区、一第二导电型的本体、一沟槽式栅极与多个具有第一导电型的源极区;本体位于漏极区上;沟槽式栅极位于本体内,并具有至少二长条部分与一交错部分,其中,长条部分的底部位于漏极区内,交错部分的底部位于本体内;源极区位于本体内,并且至少邻接于沟槽式栅极的长条部分。本发明通过缩减沟槽式栅极与漏极的接面面积,以降低封闭型沟槽式功率金氧半场效晶体管结构的栅极/漏极电容值。
申请公布号 CN102088033B 申请公布日期 2013.03.20
申请号 CN200910252065.4 申请日期 2009.12.08
申请人 科轩微电子有限公司 发明人 许修文
分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I 主分类号 H01L29/78(2006.01)I
代理机构 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人 王月玲;武玉琴
主权项 一种封闭型沟槽式金氧半场效晶体管结构,其特征在于,包括:一第一导电型的漏极区;一第二导电型的本体,位于该漏极区上;一沟槽式栅极,位于该本体内,该沟槽式栅极具有至少二长条部分与一交错部分,其中,该长条部分的底部位于该漏极区内,该交错部分的底部位于该本体内;以及多个具有该第一导电型的源极区,位于该本体内,并且至少邻接于该沟槽式栅极的该长条部分。
地址 中国台湾台北市