用于MOCVD系统中控制外延片温度及均匀性的装置与方法

摘要

一种用于MOCVD(金属有机化学气相沉淀)系统中控制外延片温度及均匀性的装置，托盘上方沿径向设置一组非接触光学温度计，反馈托盘上多个环状区域内单个或多个外延片的温度。温度控制器以外延片温度的统计平均值与外延工艺规定温度的差异最小为目标，独立控制托盘下方的若干加热元件的功率输出。每个环状区域内的多个外延片，由下方一个或相邻多个环状排列、径向覆盖面积较小的加热元件来对应加热，在不同温度的工艺条件下，能有效平衡外延片及托盘在径向的热量流失，实现对单个外延片和相邻外延片之间温度及均匀性的精确与稳定的控制。本发明还通过设置接触式热电耦温度计来测量加热器温度，作为外延工艺规定温度的参照点，同时监测加热器是否正常工作。

主权项

一种用于金属有机化学气相沉淀系统中控制外延片温度及均匀性的装置，包含通过在上表面设置的若干凹盘(11)对应放置有若干外延片(40)的托盘(10)、设置在所述托盘(10)上方的一组非接触光学温度计(21)，以及设置在托盘(10)下方的加热器(30)，其特征在于，所述托盘(10)沿径向设置有若干同圆心但半径递增的环状区域，若干所述外延片(40)分布排列在这些环状区域内；一组所述非接触光学温度计(21)沿径向排列在所述托盘(10)上方，每一个或相邻若干个非接触光学温度计(21)，对应检测所述托盘(10)上同一环状区域内的至少一个外延片(40)的温度；所述加热器(30)包含同圆心设置的一组环状排列、独立功率输入的加热元件(31)，每一个或相邻若干个加热元件(31)通过加热托盘(10)，对应加热托盘(10)上排列在同一环状区域上的多个外延片(40)。