发明名称 用于制造在触摸面板中使用的透明主体的方法与系统
摘要 提供一种用于制造在触摸面板中使用的透明主体的工艺。所述工艺包括:于基板上沉积第一透明层堆迭,第一透明层堆迭包括第一介电膜、第二介电膜以及第三介电膜。第一介电膜及第三介电膜具有低折射率,且第二介电膜具有高折射率。所述工艺还包括:以一方式沉积透明导电膜,使得第一透明层堆迭及透明导电膜依此顺序设置于基板上。第一介电膜、第二介电膜、第三介电膜或透明导电膜中的至少一个藉由可旋转靶材的溅射而沉积。进一步,本发明也提供了一种用于制造在触摸面板中使用的透明主体的沉积设备,以及在触摸面板中使用的透明主体。
申请公布号 CN102985589A 申请公布日期 2013.03.20
申请号 CN201180033495.2 申请日期 2011.06.15
申请人 应用材料公司 发明人 H-G·洛茨
分类号 C23C14/34(2006.01)I;G02B1/11(2006.01)I;G02F1/133(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;G06F3/044(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 陆勍;邢德杰
主权项 一种用于制造在触摸面板中使用的透明主体(10)的工艺,所述工艺包括:在基板(14)上沉积第一透明层堆迭(12),所述第一透明层堆迭(12)包括第一介电膜(16)、第二介电膜(18)以及第三介电膜(20),所述第一介电膜及所述第三介电膜具有低折射率,且所述第二介电膜具有高折射率;以及以一方式沉积透明导电膜(22),使得所述第一透明层堆迭(12)及所述透明导电膜(22)依此顺序设置于所述基板(14)上;其中藉由溅射可旋转靶材(122、124、126、128、322、324、326、328)沉积所述第一介电膜(16)、所述第二介电膜(18)、所述第三介电膜(20)或所述透明导电膜(22)中的至少一个。
地址 美国加利福尼亚州