发明名称 |
扩张性膜、切割膜以及半导体装置的制造方法 |
摘要 |
本发明的课题在于获得一种低污染、具有对于以往的烯烃系扩张性基材而言不充分的高扩张性、且不易颈缩的烯烃系扩张性基材及切割膜。为了达成上述课题,本发明提供一种扩张性膜,其为含有在23℃时的拉伸弹性模量为100MPa~500MPa的1-丁烯·α-烯烃共聚物(A)、以及包含丙烯·α-烯烃共聚物(b1)且在23℃时的拉伸弹性模量为10MPa~50MPa的丙烯系弹性体组合物(B)的基材,并且相对于(A)与(B)的合计100重量份,上述(B)的含量为30重量份~70重量份。 |
申请公布号 |
CN102986007A |
申请公布日期 |
2013.03.20 |
申请号 |
CN201180033494.8 |
申请日期 |
2011.09.28 |
申请人 |
三井化学株式会社 |
发明人 |
林下英司;尾崎胜敏;酒井充;大池节子 |
分类号 |
H01L21/301(2006.01)I;C09J7/02(2006.01)I;C09J201/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/301(2006.01)I |
代理机构 |
北京银龙知识产权代理有限公司 11243 |
代理人 |
钟晶;於毓桢 |
主权项 |
一种扩张性膜,其为含有在23℃时的拉伸弹性模量为100MPa~500MPa的1‑丁烯·α‑烯烃共聚物(A)、以及包含丙烯·α‑烯烃共聚物(b1)且在23℃时的拉伸弹性模量为8MPa~500MPa的丙烯系弹性体组合物(B)的基材,相对于(A)与(B)的合计100重量份,所述(B)的含量为30重量份~70重量份。 |
地址 |
日本东京都 |