一种制备真空物理气相沉积镀层图案的方法

摘要

本发明公开了一种制备真空物理气相沉积镀层图案的方法，包括步骤：一、根据镀层图案确定遮挡区域；二、掩膜遮挡层覆盖：在所有遮挡区域上均均匀覆盖一层遮蔽涂料；待所覆盖涂料干燥固化后，形成一层厚度≤0.1mm的掩膜遮挡层；遮蔽涂料由以下质量百分比的原料制成：遮蔽剂10～30%，粘接剂1～5%，分散剂0.1～0.5%，余量为有机溶剂；三、真空物理气相沉积；四、遮挡层与镀层清除；五、后续处理：对被加工工件的加工面进行冲洗、烘干，便获得真空物理气相沉积镀层图案。本发明方法步骤简单、操作简便且使用效果好、适用范围广，能解决现有制备方法存在的制备镀层图案工序复杂、工件表面不需要沉积镀层的区域难以精确保护等问题。

主权项

一种制备真空物理气相沉积镀层图案的方法，其特征在于该方法包括以下步骤：步骤一、根据镀层图案确定遮挡区域：根据预先设计的真空物理气相沉积镀层图案在被加工工件（3）加工面上的布设位置与尺寸，确定所述被加工工件（3）的加工面上应进行保护的遮挡区域数量以及各遮挡区域的位置和尺寸；步骤二、掩膜遮挡层覆盖：在步骤一中所确定的所有遮挡区域上，均均匀覆盖一层遮蔽涂料；且待所覆盖涂料干燥固化后，形成一层厚度≤0.1mm的掩膜遮挡层（1）；所述遮蔽涂料由以下质量百分比的原料制成：遮蔽剂10%～30%，粘接剂1%～5%，分散剂0.1%～0.5%，余量为有机溶剂；所述遮蔽剂为碳酸钙、碳酸钡、二氧化钛、硫酸钡、氯化银、碳酸银、氢氧化银、氧化铝、碳酸锌、氢氧化锌或氢氧化铁，所述分散剂为有机膨润土或/和气相二氧化硅，所述粘接剂为醇酸树脂、聚甲基丙烯酸甲酯或多元醇松香酯，所述有机溶剂为酮类有机溶剂、酯类有机溶剂或芳香烃类有机溶剂；步骤三、真空物理气相沉积：采用真空物理气相沉积设备，对步骤二中覆盖掩膜遮挡层后的所述被加工工件（3）进行真空物理气相沉积处理，并相应在所述被加工工件（3）的加工面上形成一层厚度≥3μm的真空物理气相沉积镀层（2）；步骤四、遮挡层与镀层清除：将步骤三中经真空物理气相沉积处理后的所述被加工工件（3），放入去离子水中超声清洗2min～3min，并将步骤二中所述掩膜遮挡层（1）和步骤三中所述真空物理气相沉积镀层（2）均清除掉；步骤五、后续处理：对步骤四中清除掉掩膜遮挡层（1）和真空物理气相沉积镀层（2）的所述被加工工件（3）的加工面进行冲洗，且冲完后烘干，便获得真空物理气相沉积镀层图案。