透明导电性膜及其制造方法

摘要

提供一种透明导电体层之图案形状并不醒目、辨识度良好之多层结构之透明导电性膜。该膜具备：由膜状高分子树脂而形成的透明基材11；于基材11上所积层的第1硬涂层12；于第1硬涂层12上视需要而积层的第1透明介电质层13；于第1透明介电质层13上所积层的第1透明导电体层14。基材11具有2μm～250μm的膜厚。第1硬涂层12由含有无机氧化物的硬化性树脂而形成，具有1.40～1.90的折射率及0.5μm～6μm的膜厚。第1透明介电质层13由无机物而形成，具有1.30～1.50的折射率及10nm～50nm的膜厚。第1透明导电体层14由选自由无机氧化物、金属、碳所构成的群组的至少1种而形成，进行了图案化且具有10nm～2μm的膜厚。

主权项

一种透明导电性膜，包括：透明基材，由膜状的高分子树脂而形成；第1硬涂层，积层于所述基材的其中一个面上；第1透明介电质层，视需要而积层于所述第1硬涂层的与所述基材侧为相反侧的面上；以及第1透明导电体层，积层于所述第1透明介电质层的与所述第1硬涂层侧为相反侧的面上；所述基材具有2μm～250μm的膜厚，所述第1硬涂层由含有无机氧化物的硬化性树脂而形成，具有1.40～1.90的折射率及0.5μm～6μm的膜厚，所述第1透明介电质层由无机物而形成，具有1.30～1.50的折射率及10nm～50nm的膜厚，所述第1透明导电体层由选自由无机氧化物、金属、碳所构成的群组的至少1种而形成，进行了图案化且具有10nm～2μm的膜厚。