一种激光薄膜元件用光学基板清洗后表面检测方法

摘要

本发明涉及一种激光薄膜用光学基板清洗后表面检测方法，属于光学技术领域。所述检测流程工艺包括以下步骤：运用5µm、10µm尺寸的人造氧化硅小球定标白光表面检测灯的可见度，对基板清洗后的残留颗粒运用5µm～50µm尺寸的氧化硅小球进行尺度对比，统计残留颗粒的尺度和数量，实现用肉眼对基板表面微米尺度颗粒的半定量化检测；使用弱吸收仪扫描基板表面，统计基板表面上吸收高于20ppm小于100ppm，以及吸收值大于100ppm的点数，依此实现对基板表面纳米尺度金属氧化物粉粒的清洗去除效率的精确评价；运用原子力显微镜测量基板表面划痕的深度、表面粗糙度，并测量记录直径超过20nm的麻点个数，实现对基板表面疵病的量化评测。本发明的优点在于所述检测方法实现对光学基板清洗后表面的定量化检测，为基板清洗工艺的改进提供数据支撑，保证基板镀膜后达到激光损伤方面的要求。

主权项

一种激光薄膜元件用光学基板清洗后表面检测方法，其特征在于具体步骤如下： (1) 在表面洁净的熔石英光学基板上分别旋涂尺寸均一的直径为5µm、10µm氧化硅小球，使用白光表面检测灯观测涂有氧化硅小球的熔石英光学基板，确认检测者肉眼能够看到熔石英光学基板表面吸附的氧化硅小球，并能分辨小球的尺度大小，确认白光表面检测灯的可见度达到对微米尺度颗粒检测的标准，开始对清洗后熔石英光学基板表面进行残留颗粒的检测；（2）在熔石英光学基板检测过程中，当检测者观测到残留颗粒后，分别将此颗粒与标准片上的5～50µm尺度的标准氧化硅小球对比，获得该残留颗粒的尺度范围，统计熔石英光学基板表面的残留颗粒的数目以及尺度信息； (3)将清洗之后在白光表面检测灯下确认无可见颗粒的熔石英光学基板，使用弱吸收仪扫描测量基板表面弱吸收值，记录熔石英光学基板清洗后全表面的平均弱吸收值，统计整个熔石英光学基板表面上吸收高于20ppm小于100ppm的吸收点，以及大于100ppm的吸收点的个数，确认纳米尺度金属氧化物粉粒污染的清洗去除程度； (4) 对通过上述检测的清洗后熔石英光学基板作原子力显微镜检测,扫描尺寸为10µm，每个熔石英光学基板表面随机选择3～6个测试点，探测区域内划痕的深度，测量区域内熔石英光学基板表面的粗糙度，并测量记录直径超过20nm的凹坑个数。