发明名称 Verwertung niedrigsiedender Verbindungen in Chlorsilan-Prozessen
摘要 Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan durch Umsetzung von metallurgischem Silicium und Chlorwasserstoff in einen Reaktor bei einer Temperatur von 200 bis 400°C, welches dadurch gekennzeichnet ist, dass niedrigsiedende Nebenprodukte des Produktstromes in den Reaktor wieder eingespeist werden.
申请公布号 DE102011082662(A1) 申请公布日期 2013.03.14
申请号 DE20111082662 申请日期 2011.09.14
申请人 EVONIK DEGUSSA GMBH 发明人 SEILER, HARALD, DR.;SCHLADERBECK, NORBERT, DR.;MERTSCH, HORST;DR. BECKER, FRANK
分类号 C01B33/107 主分类号 C01B33/107
代理机构 代理人
主权项
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