发明名称 |
Verwertung niedrigsiedender Verbindungen in Chlorsilan-Prozessen |
摘要 |
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von Trichlorsilan durch Umsetzung von metallurgischem Silicium und Chlorwasserstoff in einen Reaktor bei einer Temperatur von 200 bis 400°C, welches dadurch gekennzeichnet ist, dass niedrigsiedende Nebenprodukte des Produktstromes in den Reaktor wieder eingespeist werden.
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申请公布号 |
DE102011082662(A1) |
申请公布日期 |
2013.03.14 |
申请号 |
DE20111082662 |
申请日期 |
2011.09.14 |
申请人 |
EVONIK DEGUSSA GMBH |
发明人 |
SEILER, HARALD, DR.;SCHLADERBECK, NORBERT, DR.;MERTSCH, HORST;DR. BECKER, FRANK |
分类号 |
C01B33/107 |
主分类号 |
C01B33/107 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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