发明名称 Verfahren zur Stabilisierung der Strahlungsleistung einer gepuist betriebenen, auf gasentladungserzeugtem Plasma basierenden Strahlungsquelle
摘要 Verfahren zur Stabilisierung der Strahlungsleistung einer gepulst betriebenen, auf gasentladungserzeugtem Plasma basierenden Strahlungsquelle, insbesondere einer EUV-Strahlungsquelle, bei der innerhalb einer Sequenz aus einer Vielzahl aufeinanderfolgender Strahlungsimpulse eine gleichbleibende Impulsenergie abgestrahlt werden soll, gekennzeichnet durch die Schritte: – Messen der Impulsenergie jedes Strahlungsimpulses der EUV-Quelle, – Messen wenigstens einer Einflussgröße, – Bilden von zeitlichen Mittelwerten der Impulsenergie und der Einflussgröße, – Berechnen der Abweichung der aktuellen Messwerte von den Mittelwerten der Impulsenergie und Einflussgröße, – Bestimmen des Verhältnisses von Impulsenergie und Einflussgröße zumindest für einen Arbeitspunkt, in dem die Impulsenergie konstant gehalten werden soll, wobei das Verhältnis aufgrund der geringen Größe der Schwankungen gegenüber den Mittelwerten als linear angenommen und in Form eines Proportionalitätsfaktors der funktionalen Abhängigkeit ermittelt wird, – Ermitteln von normierten Korrelationskoeffizienten der gemessenen Einflussgröße(n), um den Grad der statistischen Abhängigkeit der jeweiligen Einflussgröße auf die Impulsenergie zu bestimmen, – Regeln der...
申请公布号 DE10219805(B4) 申请公布日期 2013.03.14
申请号 DE2002119805 申请日期 2002.04.30
申请人 XTREME TECHNOLOGIES GMBH 发明人 KLEINSCHMIDT, JUERGEN, DR.
分类号 G21K5/00;H05B41/36;G03F7/20;G21K5/02;G21K5/08;H01L21/027;H01S3/134;H01S3/225;H05B41/34;H05G2/00;H05H1/00;H05H1/06 主分类号 G21K5/00
代理机构 代理人
主权项
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