摘要 |
<p>Verfahren zum Erzeugen einer gasdichten und rissfreien Chrom-Schutzschicht für Substrate aus Eisen- und Nickel- und Titanbasislegierungen durch Plasmaspritzen, wobei der Chromgehalt in der fertigen Schicht mindestens 70 Gew.% beträgt und ein Spritzpulver aus drei Komponenten gewählt wird, einer ersten Komponente aus feinkörnigem Chrompulver, einer zweiten aus feinkörnigem Pulver aus einer Nickelbasislegierung, und einer dritten aus grobkörnigem Cristobalit- oder Quarzpulver als Träger für die erste und zweite Komponente.</p> |