发明名称 Inspektionssystem und -verfahren für die optische Untersuchung von Objektoberflächen, insbesondere von Waferoberflächen
摘要 Die Erfindung betrifft ein Inspektionssystem, ein Inspektionsverfahren sowie ein Computerprogrammprodukt für die optische Untersuchung von Objektoberflächen, insbesondere von Waferoberflächen, auf Oberflächendefekte. Nach dem Inspektionsverfahren wird eines Bildes von der Objektoberfläche mittels einer Digitalkamera (101, 212, 222) aufgenommen, zusammenhängende Bildpunkte in dem Bild einem Defektfragment (301, 301', 302, 302', 401) zugeordnet, wenn deren Inhalte innerhalb eines bestimmten Wertebereiches liegen, Werten bestimmter Defektfragmenteigenschaften ermittelt, benachbarte Defektfragmenten (301, 301', 302, 302', 401) einem Defekt zugeordnet, wenn diese vorbestimmte Abstands- und/oder Formzusammenhänge aufweisen, Werten bestimmter Defekteigenschaften ermittelt und der Defektes einer vordefinierten Defektklasse anhand der ermittelten Defektfragmenteigenschaftswerte und/oder der ermittelten Defekteigenschaftswerte zugeordnet.
申请公布号 DE102008001174(B4) 申请公布日期 2013.03.14
申请号 DE20081001174 申请日期 2008.04.14
申请人 RUDOLPH TECHNOLOGIES GERMANY GMBH 发明人 BUGNER, DIRK;SITOV, SERGEI;NIKOLOV, MLADEN
分类号 G06K9/03;G01B11/24;G01N21/95;G06T7/40 主分类号 G06K9/03
代理机构 代理人
主权项
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