膜厚控制方法及装置

摘要

本发明公开了一种膜厚控制方法及膜厚控制装置，所述膜厚控制方法用于膜处理工艺中的膜厚控制，所述膜厚控制方法包括步骤：在进行所述膜处理工艺的膜处理容器的不同区域设置能够影响所述膜处理容器内不同区域的所述膜处理工艺反应温度的多个加热器；在进行所述膜处理工艺时，通过所述多个加热器，将各所述不同区域的反应温度提升至各自的温度预设值；获得所述膜处理工艺后的所述不同区域的膜厚数据，根据所述膜厚数据与目标膜厚的差距调整所述不同区域的温度预设值。本发明能够获得较佳的膜厚均匀性。

主权项

一种膜厚控制方法，用于膜处理工艺中的膜厚控制，其特征在于，所述膜厚控制方法包括步骤：步骤S1：在进行所述膜处理工艺的膜处理容器的不同区域设置能够影响所述膜处理容器内不同区域的所述膜处理工艺反应温度的多个加热器；步骤S2：在进行所述膜处理工艺时，通过所述多个加热器，将各所述不同区域的反应温度提升至各自的温度预设值；步骤S3：获得所述膜处理工艺后的所述不同区域的膜厚数据，根据所述膜厚数据与目标膜厚的差距调整所述不同区域的温度预设值。