发明名称 |
导热绝缘复合膜层及芯片堆叠结构 |
摘要 |
本发明提供一种导热绝缘复合膜层及芯片堆叠结构。该导热绝缘复合膜层,包括位于金属基材的上表面及下表面上的介面层,以及位于介面层上的绝缘层。由于本发明的绝缘复合层兼具导热及绝缘特性,因此可设置于芯片堆叠结构之间并直接接触芯片,以同时于水平及垂直方向散热。 |
申请公布号 |
CN102130078B |
申请公布日期 |
2013.03.13 |
申请号 |
CN201010004690.X |
申请日期 |
2010.01.20 |
申请人 |
财团法人工业技术研究院 |
发明人 |
吕明生;刘君恺;黄振东;吴金宝;余致广 |
分类号 |
H01L23/373(2006.01)I;H01L25/00(2006.01)I;H01L21/48(2006.01)I;H01L21/50(2006.01)I;H01B17/60(2006.01)I |
主分类号 |
H01L23/373(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
陈小雯 |
主权项 |
一种芯片堆叠结构中的导热绝缘复合膜层,包括:金属基材;介面层,分别位于该金属基材的上表面及下表面上;以及第一绝缘层,位于该些介面层上,其中该金属基材为高导热金属,该介面层用于增加该第一绝缘膜层与该金属基材的结合强度,该第一绝缘层用于避免芯片因接触该导热绝缘复合膜层而短路,该金属基材的厚度介于10μm至200μm之间,该介面层的厚度介于20nm至100nm之间,该第一绝缘层的厚度介于20nm至2μm之间。 |
地址 |
中国台湾新竹县 |