发明名称 |
抗反射薄膜、偏振片及其制备方法、液晶显示元件、液晶显示装置和图象显示装置 |
摘要 |
本发明提供一种廉价易生产并且具有足够的抗反射性能、耐擦伤性和耐污渍性的抗反射薄膜,以及利用具有这种优异性能的抗反射薄膜的偏振片和液晶显示装置,其中该抗反射薄膜包括透明支持体和折射率比透明支持体的折射率低的低折射率层,其中该低折射率层是最外层,并且低折射率层含有中空二氧化硅颗粒和降低最外层的表面自由能的化合物。 |
申请公布号 |
CN101957461B |
申请公布日期 |
2013.03.13 |
申请号 |
CN201010281890.X |
申请日期 |
2004.12.24 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
池田显;村松雄三;加藤荣一;中村和浩 |
分类号 |
G02B1/11(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;B32B27/08(2006.01)I;B32B27/18(2006.01)I;C09D127/12(2006.01)I;C09D183/07(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I |
主分类号 |
G02B1/11(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
于辉 |
主权项 |
一种抗反射薄膜,其包括:透明支持体;和折射率比透明支持体的折射率低的低折射率层,其中所述低折射率层是抗反射薄膜的最外层,并且该低折射率层包括:中空二氧化硅颗粒和能够降低抗反射薄膜的表面自由能的粘合剂;所述粘合剂是具有(甲基)丙烯酰基的含氟聚合物;所述低折射率层还包含具有(甲基)丙烯酰基的聚硅氧烷化合物,其中聚硅氧烷和氟烷基中至少一个在所述低折射率层的外表面分聚,这样在该外表面的光电子谱中的光谱强度比Si/C或F/C比距离该外表面的深度为该低折射率层的厚度的80%处的Si/C或F/C大至少5倍,其中所述聚硅氧烷化合物在含有多个二甲基甲硅氧基单元作为重复单元的化合物链的任意末端和侧枝的至少一个位置具有多个(甲基)丙烯酰基,并且其分子量为3000到30000。 |
地址 |
日本东京 |