发明名称 发光二极管结构
摘要 本发明涉及一种发光二极管结构,用以增加电流的扩散程度,改善发光效率;所述发光二极管结构于N型半导体层之间再添加一N型电流扩散层,用以使流经N型半导体层的电流均匀分布;其中,N型电流扩散层包含三层以上的子层,其通式为InxAlyGa(1-x-y)N(0≤x≤1,0≤y≤1,0≤x+y≤1),并自基板侧朝发光层侧依次由低能隙层叠至高能隙。
申请公布号 CN102237455B 申请公布日期 2013.03.13
申请号 CN201010159594.2 申请日期 2010.04.27
申请人 国立中央大学 发明人 陈鹏壬;刘学兴;綦振瀛
分类号 H01L33/14(2010.01)I 主分类号 H01L33/14(2010.01)I
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人 吴贵明
主权项 一种发光二极管结构,其特征在于,其包含:一基板(21);一N型半导体层(22),形成于所述基板(21)上;一发光层(24),形成于所述N型半导体层(22)上;一P型半导体层(25),形成于所述发光层(24)上;一电极(28),设于所述N型半导体层(22)的一外露平面(220)上,与所述外露平面(220)形成一接面;其中,所述N型半导体层(22)于所述接面之上还包含至少一个N型电流扩散层(23),用以使流经N型半导体层(22)的电流均匀分布;所述N型电流扩散层(23)包含三层以上的子层,所述子层的通式为InxAlyGa(1‑x‑y)N  (0≤x≤1,0≤y≤1,0≤x+y≤1),并自所述基板(21)侧朝所述发光层(24)侧依次由低能隙层叠至高能隙。
地址 中国台湾桃园县