发明名称 | 发光二极管结构 | ||
摘要 | 本发明涉及一种发光二极管结构,用以增加电流的扩散程度,改善发光效率;所述发光二极管结构于N型半导体层之间再添加一N型电流扩散层,用以使流经N型半导体层的电流均匀分布;其中,N型电流扩散层包含三层以上的子层,其通式为InxAlyGa(1-x-y)N(0≤x≤1,0≤y≤1,0≤x+y≤1),并自基板侧朝发光层侧依次由低能隙层叠至高能隙。 | ||
申请公布号 | CN102237455B | 申请公布日期 | 2013.03.13 |
申请号 | CN201010159594.2 | 申请日期 | 2010.04.27 |
申请人 | 国立中央大学 | 发明人 | 陈鹏壬;刘学兴;綦振瀛 |
分类号 | H01L33/14(2010.01)I | 主分类号 | H01L33/14(2010.01)I |
代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人 | 吴贵明 |
主权项 | 一种发光二极管结构,其特征在于,其包含:一基板(21);一N型半导体层(22),形成于所述基板(21)上;一发光层(24),形成于所述N型半导体层(22)上;一P型半导体层(25),形成于所述发光层(24)上;一电极(28),设于所述N型半导体层(22)的一外露平面(220)上,与所述外露平面(220)形成一接面;其中,所述N型半导体层(22)于所述接面之上还包含至少一个N型电流扩散层(23),用以使流经N型半导体层(22)的电流均匀分布;所述N型电流扩散层(23)包含三层以上的子层,所述子层的通式为InxAlyGa(1‑x‑y)N (0≤x≤1,0≤y≤1,0≤x+y≤1),并自所述基板(21)侧朝所述发光层(24)侧依次由低能隙层叠至高能隙。 | ||
地址 | 中国台湾桃园县 |