发明名称 半导体装置
摘要 提供一种将Si-FRD的阳极和Si-SBD的阴极串联连接的半导体装置。在Si-FRD中存在释放被积累的电荷量Qrr为止的时间即反向恢复时间trr长的问题,要消除该问题,却存在正向电压VF增高的问题。Si-SBD作为器件本身的特性,反向恢复时间短,但要实现高击穿电压的器件,正向电压VF变得非常大。即无论是Si-FRD、Si-SBD,VF-trr特性都处于折中的关系。相对于此,SiC-SBD的正向电压VF低且反向恢复时间trr也短,因此能够改善VF-trr特性。但是SiC-SBD的价格非常贵。Si-SBD的结电容可累积的电荷量是Si-FRD在反向恢复时产生的电荷量的同等以上。Si-SBD与S-FRD相比,击穿电压变低。
申请公布号 CN101930976B 申请公布日期 2013.03.13
申请号 CN201010209502.7 申请日期 2010.06.21
申请人 三洋电机株式会社;三洋半导体株式会社 发明人 三好诚二;冈田哲也;有本志峰
分类号 H01L27/08(2006.01)I;H01L29/861(2006.01)I 主分类号 H01L27/08(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 李芳华
主权项 一种半导体装置,其特征在于,包括:pn结二极管;以及肖特基势垒二极管,所述pn结二极管的阳极和所述肖特基势垒二极管的阴极串联连接,所述肖特基势垒二极管的结电容可累积的电荷量为所述pn结二极管在反向恢复时产生的电荷量同等以上。
地址 日本大阪府