| 发明名称 | 镀膜设备（单腔半导体） | ||
| 摘要 | 1．本外观设计产品的名称：镀膜设备（单腔半导体）。2．本外观设计产品的用途：是一种单腔半导体镀膜设备。3．本外观设计的设计要点：主视图。4．最能表明设计要点的图片或者照片：主视图。 | ||
| 申请公布号 | CN302351174S | 申请公布日期 | 2013.03.13 |
| 申请号 | CN201230208114.7 | 申请日期 | 2012.05.30 |
| 申请人 | 沈阳拓荆科技有限公司 | 发明人 | 张吉智;吴凤丽;姜崴 |
| 分类号 | 15-09 | 主分类号 | 15-09 |
| 代理机构 | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 | 代理人 | 甄玉荃 |
| 主权项 | |||
| 地址 | 110179 辽宁省沈阳市浑南新区新源街1-1号三层 | ||