| 发明名称 | 制备图案化的双折射产品的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种制备图案化的双折射产品的方法，该方法依次包括至少步骤(I)～(III)：(I)提供具有含有聚合物的光学各向异性层的双折射图案构造体，所述聚合物具有未反应的反应性基团；(II)对所述双折射图案构造体的区域进行加热；和(III)使所述双折射图案构造体经受使所述光学各向异性层中的至少一部分未反应的反应性基团反应的过程。 | ||
| 申请公布号 | CN102037385B | 申请公布日期 | 2013.03.13 |
| 申请号 | CN200980118050.7 | 申请日期 | 2009.03.16 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 兼岩秀树;网盛一郎 |
| 分类号 | G02B5/30(2006.01)I;B42D15/10(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 于辉 |
| 主权项 | 一种制备图案化的双折射产品的方法，依次包括至少步骤(I)～(III)：(I)提供具有含有聚合物的光学各向异性层的双折射图案构造体，所述聚合物具有未反应的反应性基团，其中所述光学各向异性层是通过以下步骤形成的层：将含有具有不同聚合条件的两种或更多种的反应性基团的液晶性化合物的溶液涂布并干燥，由此形成液晶相，然后通过加热或用电离辐射照射来聚合和固定所述化合物；(II)在180‑260℃对所述双折射图案构造体的部分区域进行加热，从而将所述光学各向异性层转换为图案化的光学各向异性层；和(III)使所述双折射图案构造体经受使所述图案化的光学各向异性层中的至少一部分所述未反应的反应性基团反应的过程。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||