阵列基板、液晶显示元件及阵列基板的制造方法

摘要

本发明提供一种阵列基板、液晶显示元件及阵列基板的制造方法。由具有高的放射线感光度、且可在低温下硬化的感放射线性树脂组成物形成绝缘膜而提供阵列基板，使用该阵列基板而提供液晶显示元件。使用感放射线性树脂组成物，且通过低温的加热硬化而形成绝缘膜（12），并且通过低温硬化形成配向膜（10）而制造阵列基板（1），所述感放射线性树脂组成物含有[A]在同一或不同聚合物分子中具有包含下述式（1）的基的结构单元与含有环氧基的结构单元的聚合物、及[B]光产酸剂。液晶显示元件包含阵列基板（1）。

主权项

1.一种阵列基板，用在液晶显示元件，包括：开关有源元件、在所述开关有源元件上所配置的绝缘膜、在所述绝缘膜上所形成的接触孔、经由所述接触孔而与所述开关有源元件电性连接的像素电极、在所述像素电极上所形成的配向膜，所述阵列基板的特征在于：所述绝缘膜是由含有如下成分的感放射线性树脂组成物所形成的绝缘膜：[A]在同一或不同聚合物分子中具有包含下述式（1）所表示的基的结构单元与含有环氧基的结构单元的聚合物、及[B]光产酸剂；所述配向膜是使用包含具有光配向性基的感放射线性聚合物的液晶配向剂及包含不具光配向性基的聚酰亚胺的液晶配向剂中的任意种而所得的配向膜；[化1]在式（1）中，R¹及R²分别独立为氢原子、烷基、环烷基或芳基，这些烷基、环烷基或芳基的氢原子的一部分或全部也可以被取代基取代，其中，并不存在R¹及R²均为氢原子的情况；R³是烷基、环烷基、芳烷基、芳基或-M(R⁴)₃所表示的基，这些基的氢原子的一部分或全部也可以被取代基取代，其中M为Si、Ge或Sn，R⁴为烷基；R¹与R³亦可连结而形成环状醚。