金属加工方法、金属掩模制造方法以及有机EL显示装置制造方法

摘要

本发明涉及金属加工方法、金属掩模制造方法以及有机EL显示装置制造方法。其中，在金属板(210)的两面涂布光抗蚀液，形成光抗蚀膜(220、230)(S102)，接着，进行光抗蚀膜的曝光及显像，以残留开孔的部分的光抗蚀膜的方式去除其它的光抗蚀膜(S103)。接着，在形成光抗蚀膜的金属板的两面形成金属薄膜(240、250)(S104)。然后，在去除光抗蚀膜的同时，去除在光抗蚀膜之上形成的金属薄膜(245、255)(S105)。最后，将该金属板浸入蚀刻液，进行蚀刻，在金属板上形成高精度的孔(S106)。

主权项

一种加工金属表面的金属加工方法，其特征在于，包括以下步骤：光刻步骤，以在进行上述金属表面的加工的部分上残留光抗蚀膜的方式形成上述光抗蚀膜；金属薄膜形成步骤，在上述光刻步骤中形成的上述光抗蚀膜上、以及没有形成上述光抗蚀膜的上述金属表面上，形成上述金属薄膜；光抗蚀膜金属薄膜去除步骤，与上述光抗蚀膜一起，去除在上述光抗蚀膜上形成的上述金属薄膜；以及蚀刻步骤，对通过上述光抗蚀膜金属薄膜去除步骤而露出的金属表面进行蚀刻，在具有上述金属表面的金属上形成贯通孔。