发明名称 | 微晶玻璃抛光液的制备方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种微晶玻璃的抛光液制备,该方法根据微晶玻璃能和碱发生化学反应,抛光液选用碱性抛光液。该抛光液选用纳米SiO2磨料,磨料的浓度为4-50wt%,粒径15-45nm,以利于材料的去除及表面平整化。抛光液的pH值9-13,既能满足有效去除,也能保证硅溶胶的稳定性。制备过程中采用负压搅拌制备法,避免了传统的复配、机械搅拌等制备方法带来的有机物、大颗粒、金属离子等的污染,可以达到超净的要求;并可实现纳米SiO2磨料高浓度、高pH值条件下不凝聚、不溶解。利用该抛光液的配制方法,可实现微晶玻璃表面的高精密加工。并能满足工业上对微晶玻璃抛光精密加工的要求;可明显改善器件性能,提高成品率。该方法操作简单、成本低、低粗糙、高速率、无污染。 | ||
申请公布号 | CN102010662B | 申请公布日期 | 2013.03.13 |
申请号 | CN201010231554.4 | 申请日期 | 2010.07.21 |
申请人 | 天津晶岭微电子材料有限公司 | 发明人 | 刘玉岭;檀柏梅;刘海晓 |
分类号 | H01L21/302(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/302(2006.01)I |
代理机构 | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人 | 刘英兰 |
主权项 | 一种微晶玻璃抛光液的制备方法,其特征在于实施步骤如下:以下均按重量%计:(1)将磨料碱性纳米SiO2水溶胶在负压下形成涡流吸入负压反应釜;所述磨料重量浓度为4‑50wt%,加入量是所配抛光液总重量的20‑86%;(2)用负压向反应釜中吸入去离子水,加入量是所配抛光液总重量的5‑75%; (3)在负压涡流状态下逐渐加入胺碱为1‑5%,胺碱调节pH值为9‑13; (4)在负压涡流状态下逐渐加入FA/OII型螯合剂为0.25‑2%;(5)在负压涡流状态下逐渐加入FA/OII型活性剂为0.25‑2%; (6)充分搅拌均匀后进行灌装。 | ||
地址 | 300130 天津市红桥区光荣道8号 |