一种干法刻蚀设备

摘要

本实用新型公开了一种干法刻蚀设备，Chamber中设置有颜色传感器，颜色传感器位于能与Chamber隔绝的空间中，空间通过活动挡板与Chamber保持封闭或联通；活动挡板连接于外部控制部件，控制部件控制所述活动挡板移动，使空间与所述Chamber保持封闭或联通。在有源层刻蚀(Active Etch)和过孔蚀刻(Via Etch)两个步骤中，通过所述活动挡板移动使颜色传感器暴露于Chamber中，即可对Chamber是否真空泄露进行检测，由此保证产品良率。另外，通过设置下部电极表面浮点(Embossing Dot)的分布方式，使与显示面板的像素区对应区域不设置所述表面浮点(Embossing Dot)，这样表面浮点(Embossing Dot)不会对像素区域产生干扰，保证了显示面板的显示效果。

主权项

一种干法刻蚀设备，包括反应腔，其特征在于，所述反映腔中设置有颜色传感器，所述颜色传感器位于能与所述反应腔隔绝的空间中，所述空间通过活动挡板与所述反应腔封闭或连通；所述活动挡板连接于外部控制部件，所述控制部件控制所述活动挡板移动，使所述空间与所述反应腔保持封闭或连通。