发明名称 一种用CdTe和ZnS纳米晶共修饰TiO<sub>2</sub>纳米管阵列的制备方法
摘要 本发明属于无机纳米材料领域,涉及一种CdTe和ZnS纳米晶共修饰TiO2纳米管阵列的制备方法,该方法包括以下步骤:(1)用二次阳极氧化的方法制备出TiO2纳米管阵列;(2)通过连续离子层吸附(SILAR)法在制备好的TiO2纳米管壁上沉积CdTe纳米晶;(3)用相同的方法,即SILAR法在已沉积CdTe的TiO2纳米管壁上包覆ZnS纳米晶,制备CdTe和ZnS纳米晶共修饰的TiO2纳米管阵列。本发明可拓宽TiO2纳米管的吸收光谱至可见光区域并可成功地降低光生电子-空穴对的复合率,成功地提高了TiO2纳米管的光电性能;同时此方法的实验设备简单,操作方便,成本低,具有工业化生产的前景。
申请公布号 CN102965645A 申请公布日期 2013.03.13
申请号 CN201210454215.1 申请日期 2012.11.13
申请人 同济大学 发明人 杨修春;池丽娜;王青尧
分类号 C23C18/00(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 主分类号 C23C18/00(2006.01)I
代理机构 上海智信专利代理有限公司 31002 代理人 吴林松
主权项 一种CdTe和ZnS纳米晶共修饰TiO2纳米管阵列的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)将高纯钛片超声除油,去除自然氧化膜,进行二次阳极氧化并经过热处理相转变后,制备出有序锐钛矿TiO2纳米管阵列;(2)采用连续离子层吸附与反应的方法,在步骤(1)制得的TiO2纳米管阵列的TiO2纳米管壁上沉积CdTe纳米晶;(3)采用连续离子层吸附与反应的方法在步骤(2)中已沉积CdTe纳米晶的TiO2纳米管壁上包覆ZnS纳米晶,制得CdTe和ZnS纳米晶共修饰TiO2纳米管阵列。
地址 200092 上海市杨浦区四平路1239号