控制对含钨层的蚀刻微负载的方法

摘要

提供一种含钨层中蚀刻不同纵横比特征的方法。提供一种包含钨蚀刻成分和沉积成分的蚀刻气体。由所提供的蚀刻气体形成等离子。利用所提供的等离子蚀刻图案化有宽和窄特征的含钨层。

主权项

一种通过具有宽特征和窄特征的掩模蚀刻含钨层的方法，包括（a）提供包括钨蚀刻成分和沉积成分的蚀刻气体混合物，其产生非共形沉积物；（b）由该蚀刻气体混合物形成等离子；以及（c）使用由该蚀刻气体混合物形成的等离子蚀刻该含钨层；其中，该沉积成分选择性地在该特征的侧壁上比在特征底部上沉积更少。