发明名称 高分子电解质膜的制造方法
摘要 本发明提供不易产生厚度不均和皱褶、凹凸的高分子电解质膜的制造方法。该高分子电解质膜的制造方法具有膜形成工序(A),使含离子性基团的高分子电解质的膜状物形成于支撑体上;酸处理工序(B),使所述膜与含无机酸的酸性液接触从而将离子性基团转变为酸型;酸除去工序(C),除去所述酸处理膜中的游离的酸;以及干燥工序(D),将所述酸除去膜干燥,其中,在不将膜从支撑体剥离的情况下实施所述(B)~(D)的工序。优选膜形成工序(A)包括流延工序(A1),将含离子性基团的高分子电解质的溶剂溶液流延于支撑体上形成流延膜;干燥工序(A2),将所述流延膜干燥;以及脱溶剂工序(A3),将所述干燥膜用与所述含离子性基团的高分子电解质的溶剂混合的液体脱溶剂。
申请公布号 CN101641818B 申请公布日期 2013.03.13
申请号 CN200780048097.1 申请日期 2007.12.26
申请人 东洋纺织株式会社 发明人 佐佐井孝介;山口裕树;坂口佳充;北村幸太;山下全广
分类号 H01M8/02(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I;H01M8/10(2006.01)I 主分类号 H01M8/02(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 朱丹
主权项 一种高分子电解质膜的制造方法,其特征在于,包括: 膜形成工序A,使含离子性基团的高分子电解质的膜状物形成于支撑体上; 酸处理工序B,使所述膜与含无机酸的酸性液接触从而将离子性基团转变为酸型; 酸除去工序C,除去所述酸处理膜中的游离的酸;以及 干燥工序D,将所述酸除去膜干燥, 其中,在不将膜从支撑体剥离的情况下实施所述B~D的工序, 所述膜形成工序A包括: 流延工序A1,将含离子性基团的高分子电解质的溶剂溶液流延于支撑体上形成流延膜; 干燥工序A2,将所述流延膜干燥;以及 脱溶剂工序A3,将所述干燥膜用与所述含离子性基团的高分子电解质的溶剂混合的液体脱溶剂, 其中,在不将膜从支撑体剥离的情况下实施工序A2和工序A3。
地址 日本国大阪府