发明名称 具有液体排斥表面的结构体,喷墨头的喷嘴板,以及清洗结构体和喷嘴板的方法
摘要 本发明涉及具有液体排斥表面的结构体,喷墨头的喷嘴板,以及清洗结构体和喷嘴板的方法。本发明的结构体具有表现出对液体的排斥性的液体排斥表面。该结构体包括:基板,所述基板具有基体表面;以及多个凸部,所述凸部排列在基板的基体表面上。凸部具有特征角,所述特征角被定义为每个凸部的侧面和与该侧面相交并且平行于基体表面的平面之间的角度,所述角度在侧面上的凸部内侧并且在所述平面上的基体表面一侧取得。凸部的特征角小于90°并且小于参考角,所述参考角作为液体相对于参考面的静态接触角被独立地确定,所述参考面是光滑的并且具有与凸部的侧面的化学状态等同的化学状态。
申请公布号 CN102963130A 申请公布日期 2013.03.13
申请号 CN201210316464.4 申请日期 2012.08.30
申请人 富士胶片株式会社 发明人 平林恭稔;安田英纪;都丸雄一
分类号 B41J2/14(2006.01)I;B41J2/165(2006.01)I;B41J2/21(2006.01)I 主分类号 B41J2/14(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 贺卫国
主权项 一种具有对液体表现出排斥性的液体排斥表面的结构体,所述结构体包括:基板,所述基板具有基体表面;以及多个凸部,所述多个凸部排列在所述基板的所述基体表面上,其中:所述凸部具有特征角,所述特征角定义为在每个所述凸部的侧面和与所述侧面相交并且平行于所述基体表面的平面之间的角度,所述角度在所述侧面上的该凸部内侧并且在所述平面上的所述基体表面一侧取得;并且所述凸部的所述特征角小于90°并且小于参考角,所述参考角作为所述液体相对于参考面的静态接触角单独地确定,所述参考面是光滑的并且具有与每个所述凸部的所述侧面的化学状态等同的化学状态。
地址 日本国东京都