于内部原位生成空隙的抛光垫及其方法

摘要

一种于CMP抛光垫中原位(in-situ)产生孔洞的方法，包括在第一材料中渗入第二材料以形成一CMP抛光垫，该第二材料具有摩擦侵蚀(frictional erosion)的抵抗能力，其系小于第一材料的抵抗能力。因此该CMP抛光垫具有两种不同摩擦侵蚀抵抗能力的材料。该CMP抛光垫的工作表面能接触要被抛光的晶圆，其中在抛光动作进行时该第二材料被摩擦侵蚀。