| 发明名称 |
含氟化合物，浸润式曝光用光阻组成物及光阻图型之形成方法 |
| 摘要 |
一种下述通式(c-1)所表示之含氟化合物。;【化1】;…(c-1);[式中，RX为有机基，AN为可具有取代基之萘环；R2为硷解离性基；a为1或2；AN与a个之R2之中至少1个为具有氟原子]。 |
| 申请公布号 |
TWI388575 |
申请公布日期 |
2013.03.11 |
| 申请号 |
TW097146460 |
申请日期 |
2008.11.28 |
| 申请人 |
东京应化工业股份有限公司 日本 |
发明人 |
古谷早苗;太宰尚宏;森贵敬;高须亮一;平野智之 |
| 分类号 |
C08F212/32;C08F220/30;C08F220/22;G03F7/004;H01L21/027 |
主分类号 |
C08F212/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
