化学气相沈积设备

摘要

本发明揭示了一种化学气相沈积设备，包括一传输模组腔室，连接一装载室与一制程模组腔室，且具有形成在底部中心区域的一自控装置设置孔；一支撑框架，支撑传输模组腔室的下表面；一基板处理自控装置，具有以将基板处理自控装置插入在自控装置设置孔内的状态而设置在传输模组腔室的一上部件，以将一基板传输到装载室及制程模组腔室；以及一变形吸收单元，连结到底部与基板处理自控装置，以缓冲且吸收底部的变形，避免将底部的变形转换到基板处理自控装置。