| 摘要 |
本发明之离子束照射方法及装置，即便对一片基板进行分割处理亦可防止对基板内之所需处理区域之处理产生不良影响，由此可对宽度大于束宽之基板进行处理。;相对于面内形成有夹持列形成分割带22及行形成分割带且排列为m列n行(m为3以上之整数、n为2以上之整数)之复数个单元20的基板10，使用Y方向之两端部分别位于夹持p列(p为1≦p≦(m-2)之整数)之单元20之两个列形成分割带22上之束宽的离子束4，实施复数次一边使基板10朝X方向移动一边照射离子束4而形成离子束照射区域30之离子束照射步骤，且于离子束照射步骤之间隔实施变更基板10之位置而变更照射离子束4之单元20之列的基板位置变更步骤，连接复数个离子束照射区域30并朝全部单元20照射离子束4。而且使复数个离子束照射区域30之连接部32位于列形成分割带22，且藉由光罩将离子束4之Y方向两端部整形为与X方向实质上平行。 |
