发明名称 成膜方法,成膜装置及记忆媒体
摘要 [课题]提供可共同维持高步骤覆盖性和成膜速率的成膜方法。;[解决手段]于可抽真空的处理容器4内,供给高熔点金属有机原料气体和含氮气体或含矽气体或含碳气体之任一者、或复数所构成的气体,于被处理体之表面形成高熔点金属之氮化、矽化、碳化之任一者、或复数所构成之膜之金属化合物膜薄膜的成膜方法中,交互进行供给前述高熔点金属有机原料气体的步骤和供给前述含氮气体或含矽气体或含碳气体之任一者、或复数所构成之气体的步骤,令前述被处理体的温度维持于前述高熔点金属有机原料之分解开始温度以上之温度。如此,可共同维持高步骤覆盖性和成膜速率。
申请公布号 TWI389184 申请公布日期 2013.03.11
申请号 TW095124851 申请日期 2006.07.07
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 中村和仁;山崎英亮;河野有美子
分类号 H01L21/285;H01L21/768;H01L21/8239;C23C16/34 主分类号 H01L21/285
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本