发明名称 |
聚乙烯醇系薄膜及其之制造方法,暨使用其之偏光膜和偏光板 |
摘要 |
本发明所提供的聚乙烯醇系薄膜,系宽度达3m以上,薄膜面内延迟值在30nm以下,且薄膜宽度方向的薄膜面内延迟值(retardation value)偏差在15nm以下。 |
申请公布号 |
TWI388413 |
申请公布日期 |
2013.03.11 |
申请号 |
TW094146947 |
申请日期 |
2005.12.28 |
申请人 |
日本合成化学工业股份有限公司 日本 |
发明人 |
大野秀树;千神昭彦;早川诚一郎 |
分类号 |
B29C41/26;B29C41/52;B29C55/02;C08J5/18;G02B5/30 |
主分类号 |
B29C41/26 |
代理机构 |
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代理人 |
赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |