发明名称 聚乙烯醇系薄膜及其之制造方法,暨使用其之偏光膜和偏光板
摘要 本发明所提供的聚乙烯醇系薄膜,系宽度达3m以上,薄膜面内延迟值在30nm以下,且薄膜宽度方向的薄膜面内延迟值(retardation value)偏差在15nm以下。
申请公布号 TWI388413 申请公布日期 2013.03.11
申请号 TW094146947 申请日期 2005.12.28
申请人 日本合成化学工业股份有限公司 日本 发明人 大野秀树;千神昭彦;早川诚一郎
分类号 B29C41/26;B29C41/52;B29C55/02;C08J5/18;G02B5/30 主分类号 B29C41/26
代理机构 代理人 赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼
主权项
地址 日本