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发明名称
曝光设备及装置制造方法
摘要
本案揭示一种曝光设备,其以来自光源的照明光来照亮光罩且自该光罩将光射至基板上以使该基板曝光,该设备包含:光阀,其位在该照明光的路径;检测器,其配置来检测对于该基板的剂量;及控制器,其配置来控制该光阀的操作。于使用具有第一光强度的照明光之第一曝光模式,该控制器基于来自该检测器的输出而控制该光阀的开启时间且储存该开启时间。于使用具有高于该第一光强度的第二光强度的照明光之第二曝光模式,该控制器基于所储存开启时间而控制该光阀的速度。
申请公布号
TWI388937
申请公布日期
2013.03.11
申请号
TW096141897
申请日期
2007.11.06
申请人
佳能股份有限公司 日本
发明人
平野真一
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址
日本
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