发明名称 剥离剂组合物
摘要 本发明系提供一种剥离剂组合物,该剥离剂组合物系用于洗净半导体基板或半导体元件,其中,(1)该剥离剂组合物包含65重量%以上的水;(2)该剥离剂组合物包含(I)由糖类、胺基酸化合物、有机酸盐及无机酸盐所构成之群中择出的至少1种及占剥离剂组合物之0.01~1重量%的六氟矽酸铵,或(II)有机膦酸及含氟化合物。本发明之剥离剂组合物系适合用于制造高品质的LCD、记忆体、CPU等电子元件。
申请公布号 TWI388943 申请公布日期 2013.03.11
申请号 TW094142783 申请日期 2005.12.05
申请人 花王股份有限公司 日本 发明人 田村敦司
分类号 G03F7/42;H01L21/027 主分类号 G03F7/42
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 日本