图案形成方法及相位移遮罩的制造方法

摘要

藉由第一蚀刻处理于透明基板上之一遮光层成一预定图案，接着使用至少该遮光层作为一遮罩，藉由第二蚀刻形成一凹槽于遮光层下之下层中。之后，执行凹槽之缺陷检查。由该检查之结果，若于遮光层下之下层中所形成之凹槽上侦测出一残留缺陷，则产生包括一残留缺陷部之区域之一图案之缺陷部资料，并基于该缺陷部资料，于遮光层上形成一修正用抗蚀图案。接着，使用该遮光层与该修正用抗蚀图案作为一遮罩，对该遮光层下之下层施加第三蚀刻，藉以修正该残留缺陷部。