发明名称 |
形成低折射率膜用组成物及其具硬化膜之基材 |
摘要 |
本发明系提供用于作为抗反射膜时具有优越之耐擦伤性、耐药品性、透明性、抗反射性能等之形成低折射率膜用组成物。;该形成低折射率膜用组成物系由含全氟烷基之(甲基)丙烯酸酯树脂、与经通式RnSiX(4-n)所示之矽烷偶合剂处理之中空二氧化矽系微粒子组成。式中,R:碳数1至4之烷氧基、甲基丙烯醯氧基、丙烯醯氧基、全氟(甲基)丙烯醯氧基,X:碳数1至4之烷氧基、矽烷醇基、卤素或氢原子。 |
申请公布号 |
TWI388573 |
申请公布日期 |
2013.03.11 |
申请号 |
TW095112680 |
申请日期 |
2006.04.10 |
申请人 |
日挥触媒化成股份有限公司 日本;共荣社化学股份有限公司 日本 |
发明人 |
熊泽光章;平井俊晴;细井弘之;竹中直巳 |
分类号 |
C08F20/24;C08F2/44;C08F14/18;B32B7/02;B32B27/30;G02B1/11 |
主分类号 |
C08F20/24 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |